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方華膜
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方華膜,上面沒有任何鍍層物質,可溶于多種有機溶劑,膜韌性強,通透率高,但是導電性差,在電子束照射下,會因高溫或電荷積累,引起局部受熱碳化,產生局部黑斑,樣品漂移,甚至石墨破裂,損傷樣品,建議在100KV電鏡上使用。用戶可做特殊處理或直接用于超薄切片樣品。 膜厚度: 10-15nm
注:G50-Cu/Ni表示國產50目的銅網或鎳網。 |
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方華膜,上面沒有任何鍍層物質,可溶于多種有機溶劑,膜韌性強,通透率高,但是導電性差,在電子束照射下,會因高溫或電荷積累,引起局部受熱碳化,產生局部黑斑,樣品漂移,甚至石墨破裂,損傷樣品,建議在100KV電鏡上使用。用戶可做特殊處理或直接用于超薄切片樣品。 膜厚度: 10-15nm
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