普通碳支持膜是在方華膜的基礎上鍍上了一層大概厚度為100nm左右的碳層，碳層的抗熱性和導電性彌補了無碳方華膜的核電效應以及熱效應，增強了膜整體的穩定性，適合大多數納米材料和生物樣品的一般形貌觀察。

純碳膜是在普通碳支持膜的基礎之上，將載網上的方華膜用特殊方法除去后得到的純碳膜。

微柵是在制作支持膜時特意在膜上制作出微孔，適用于高分辨電鏡觀察

超薄微柵膜（超薄碳膜）是在微柵的微孔上增加了一層更薄的碳膜（一般厚度為3-5nm左右），適用于10nm以下樣品的高分辨電鏡觀察。

氮化硅支持膜極其穩定可抵抗溫度變化上升至1000攝氏度，納米粒子和細胞樣品可直接在支持膜上進行操作。

Quantifoil多孔碳支持膜是精密排列的有各種尺寸、形狀網孔的多孔碳支持膜。

在透射電鏡觀察下坐標載網支持膜可以確定樣品的大致位置，使樣品很方便的進行觀察或監測，重復觀察某一樣品時更加方便。

雙聯碳支持膜，主要適合顆粒較大，附著力差的樣品，對受電子轟擊時容易漂移的樣品以及必須在電鏡下觀察的磁性材料樣品非常有效。

氧化硅薄膜窗格可應用于各種樣品制備技術。

方華膜，上面沒有任何鍍層物質